刻蚀,是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的基本目的,是在涂胶(或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。...
制绒是为了在硅片表面形成微结构,减少镜面反射的光损失。刻蚀是去掉扩散后形成的磷硅玻璃层。 由于扩散采用背靠背扩散,硅片的边缘没有遮挡也被扩...
刻蚀的原理 工艺流程:上片蚀刻槽(H2SO4 HNO3 HF)水洗碱槽(KOH)水洗HF槽水洗下片 刻蚀槽HNO3和HF的混合液体会对扩散后硅片的下表面及边缘进行腐蚀,以去除...
1、 一层层的刻蚀轮廓涂层,一层一层金属的去掉然后摄影。 2、 遵照经历推断出每一层相应地点的器件是属于电阻如故电容如故MOS管如故三级管,相应的...
有危害。 从事太阳能电池的生产工作,对身体具有潜伏的危害,首先硅是没有毒性和辐射的,但是在多晶硅电池的生产过程中会产生有毒物质和有强电磁辐...